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G100硬铬工艺使用说明书

2022-03-25

G100硬铬工艺使用说明书

工艺特点:
1、 阴极电流效率高,可达22-27%。
2、 沉积速度快,是一般普通电镀铬的2-3倍。
3、 无阴极低电流区腐蚀。
4、 镀层平滑,结晶细致光亮。
5、 镀层硬度高,可达Hv900-1150。
6、 微裂纹可达400-600条/cm。
7、 镀层厚度均匀,无高电流区过厚沉积。
8、 可使用高电流密度,可达90A/dm2
9、 无阳极腐蚀,不需采用特殊阳极。
10、 镀液维护简单,操作容易。
 
产品性状:
1、 外观:红棕色透明液体。
2、 比重:1.2g/cm3
3、 PH值:0.5~1
4、 本品无毒,不燃烧,不爆炸,非危险品。
5、 本品稳定,在10~40℃下储存较合适,在低温下长时间储存会导致结晶,经水浴加热溶解后不影响使用性能。


镀液组成和操作条件:
铬酐(CrO3                  250(225-275)g/L
硫酸(H2SO4                  3.0(2.6-5.0)g/L
G100添加剂                     20(16-20)ml/L
温度                       58(55-65)℃
阴极电流密度                    60(30-75)A/dm2        

阳极电流密度                  30(15-35)A/dm2

镀液配制:
1、 在清洁的镀槽中注入2/3体积去离子水。
2、 加入所需量的优质铬酐和G100添加剂,添加剂比重为1.2。
3、 加入去离子水调节至规定液面,充分搅拌、溶解。
4、 加热至55-65℃。
5、 分析硫酸浓度,调整至规定工艺范围内。
6、 电解2-4小时。

7、 加入适宜的铬雾抑制剂。
8、 试镀。
 
沉积速度:
阴极电流密度(A/dm2            沉积速度(微米/小时)
    30                              20-30
    45                     40-50
     60                     50-70
        75                                       70-90
沉积速度会随温度降低而稍有升高,但光亮范围会变窄。


设备:
1、 镀槽:铁槽内衬用软PVC或其它认可的材料,槽边应配有排风设备。
2、 阳极:含锡6-8%的锡铅阳极或其它认可材料。
3、 整流器:整流器应能提供足够安培数及9-15V的直流电,波纹率应小于5%。
4、 温度控制:采用热交换器或冷却管,建议用钛管或聚四氟乙烯。
 


转缸及前处理:
    传统硬铬镀液可直接使用G100添加剂,转缸工艺简单,但应将原镀液分析检验,确认各组分比例正常,无机杂质小于7.5g/L,含氟型和稀土型镀铬液不宜直接转化。如使用国外同类产品,在镀液正常时可直接添加。G100添加剂工艺的前处理同一般镀硬铬工艺相同,无需特殊处理。
 
槽液维护:
  保持铬酐、硫酸在工艺范围内,添加剂G100添加剂按7ml/KAH补加