G100硬铬工艺使用说明书
工艺特点：
1、 阴极电流效率高，可达22-27%。
2、 沉积速度快，是一般普通电镀铬的2-3倍。
3、 无阴极低电流区腐蚀。
4、 镀层平滑，结晶细致光亮。
5、 镀层硬度高，可达Hv900-1150。
6、 微裂纹可达400-600条/cm。
7、 镀层厚度均匀，无高电流区过厚沉积。
8、 可使用高电流密度，可达90A/dm2。
9、 无阳极腐蚀，不需采用特殊阳极。
10、 镀液维护简单，操作容易。
产品性状：
1、 外观：红棕色透明液体。
2、 比重：1.2g/cm3
3、 PH值：0.5～1
4、 本品无毒，不燃烧，不爆炸，非危险品。
5、 本品稳定，在10～40℃下储存较合适，在低温下长时间储存会导致结晶，经水浴加热溶解后不影响使用性能。
镀液组成和操作条件：
铬酐（CrO3） 250（225-275）g/L
硫酸（H2SO4） 3.0（2.6-5.0）g/L
G100添加剂 20（16-20）ml/L
温度 58（55-65）℃
阴极电流密度 60（30-75）A/dm2
阳极电流密度 30（15-35）A/dm2
镀液配制：
1、 在清洁的镀槽中注入2/3体积去离子水。
2、 加入所需量的优质铬酐和G100添加剂，添加剂比重为1.2。
3、 加入去离子水调节至规定液面，充分搅拌、溶解。
4、 加热至55-65℃。
5、 分析硫酸浓度，调整至规定工艺范围内。
6、 电解2-4小时。
7、 加入适宜的铬雾抑制剂。
8、 试镀。
沉积速度：
阴极电流密度（A/dm2） 沉积速度（微米/小时）
30 20-30
45 40-50
60 50-70
75 70-90
沉积速度会随温度降低而稍有升高，但光亮范围会变窄。
设备：
1、 镀槽：铁槽内衬用软PVC或其它认可的材料，槽边应配有排风设备。
2、 阳极：含锡6-8%的锡铅阳极或其它认可材料。
3、 整流器：整流器应能提供足够安培数及9-15V的直流电，波纹率应小于5%。
4、 温度控制：采用热交换器或冷却管，建议用钛管或聚四氟乙烯。
转缸及前处理：
传统硬铬镀液可直接使用G100添加剂，转缸工艺简单，但应将原镀液分析检验，确认各组分比例正常，无机杂质小于7.5g/L，含氟型和稀土型镀铬液不宜直接转化。如使用国外同类产品，在镀液正常时可直接添加。G100添加剂工艺的前处理同一般镀硬铬工艺相同，无需特殊处理。
槽液维护：
保持铬酐、硫酸在工艺范围内，添加剂G100添加剂按7ml/KAH补加。